X 射線三維顯微鏡主要由以下幾個(gè)關(guān)鍵部分組成:
一、X 射線源
功能:它是產(chǎn)生 X 射線的部件。X 射線源能夠發(fā)射具有一定能量和強(qiáng)度的 X 射線束。根據(jù)不同的應(yīng)用需求,X 射線的能量可以進(jìn)行調(diào)節(jié)。例如,在觀察較厚的樣本或者對(duì)高原子序數(shù)材料進(jìn)行成像時(shí),需要較高能量的 X 射線,以確保射線能夠穿透樣本。同時(shí),穩(wěn)定的 X 射線發(fā)射對(duì)于獲取高質(zhì)量、可重復(fù)性的圖像至關(guān)重要,其強(qiáng)度的均勻性也會(huì)影響成像的準(zhǔn)確性。
二、探測(cè)器
功能:探測(cè)器負(fù)責(zé)接收穿過樣本后的 X 射線。它能夠?qū)?X 射線的強(qiáng)度、能量等信息轉(zhuǎn)化為電信號(hào)或者數(shù)字信號(hào)。不同類型的探測(cè)器具有不同的特性。例如,有些探測(cè)器具有高靈敏度,能夠捕捉到微弱的 X 射線信號(hào),這對(duì)于觀察低吸收系數(shù)的樣本或者對(duì)精細(xì)結(jié)構(gòu)成像非常有利。探測(cè)器的分辨率也直接影響了整個(gè)顯微鏡系統(tǒng)的成像分辨率,高分辨率的探測(cè)器可以更準(zhǔn)確地記錄 X 射線的位置信息,從而得到更清晰的圖像。
三、精 密機(jī)械掃描裝置
功能:這個(gè)部分主要用于準(zhǔn)確地移動(dòng)樣本或者 X 射線源 - 探測(cè)器系統(tǒng)。在進(jìn)行三維成像時(shí),需要對(duì)樣本進(jìn)行多角度、多層次的掃描。精 密機(jī)械掃描裝置能夠以非常高的精度控制掃描的位置、角度和步長(zhǎng)。例如,在納米級(jí)別的三維成像中,它可以實(shí)現(xiàn)亞微米甚至納米級(jí)別的位置精度控制,確保對(duì)樣本的全 方位、高精度掃描,以獲取完整的三維信息。
四、光學(xué)聚焦和準(zhǔn)直系統(tǒng)(如果適用)
功能:在一些 X 射線三維顯微鏡設(shè)計(jì)中,會(huì)采用光學(xué)聚焦和準(zhǔn)直系統(tǒng)來(lái)對(duì) X 射線進(jìn)行聚焦和準(zhǔn)直處理。聚焦系統(tǒng)可以將 X 射線束匯聚到樣本的特定區(qū)域,提高成像的空間分辨率和對(duì)比度。準(zhǔn)直系統(tǒng)則用于調(diào)整 X 射線的傳播方向,確保射線能夠按照設(shè)計(jì)的路徑準(zhǔn)確地穿過樣本并到達(dá)探測(cè)器,減少散射和雜散光對(duì)成像的干擾。
五、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)和數(shù)據(jù)處理軟件
功能:計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)用于協(xié)調(diào)各個(gè)部件的工作。它可以控制 X 射線源的發(fā)射參數(shù)、機(jī)械掃描裝置的運(yùn)動(dòng)軌跡等。數(shù)據(jù)處理軟件則負(fù)責(zé)對(duì)探測(cè)器接收到的信號(hào)進(jìn)行處理。它可以將信號(hào)轉(zhuǎn)化為可視化的圖像,通過復(fù)雜的算法進(jìn)行圖像重建,如濾波反投影算法、迭代重建算法等,將二維的掃描數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為三維的立體圖像,并進(jìn)行諸如對(duì)比度增強(qiáng)、噪聲去除等圖像優(yōu)化操作,以便于研究人員觀察和分析樣本的三維結(jié)構(gòu)。
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